真空室镀膜过程监控

在镀膜过程中需要对一些重要参数进行监控，如膜层厚度、成分、表面光洁度、透光率、反射系数、偏振能力等，都可以利用光谱学和干涉法进行测量。光纤探头为监控过程提供了灵活的工具，可以使光方便地进入或从远方的真空超净室导出，而且可以按照需要制定进行膜层分析的测量布局。通过光纤可以在膜层的不同位置进行照明和探测：可以测量镜面反射、漫反射、透射、偏振、干涉、荧光和拉曼散射等。可以利用多根光纤同时监测多个参数，或者在不同的空间位置或实验条件下同时测量。 对于在线生产，可以把几个合适的光纤探头放在真空室内，就可以在线监测生产的全过程。在一些场合中，可以通过监测离子源（如等离子源）的光谱辐射来确定镀膜过程中的条件效率。

对于大多数此类监测系统来说都需要专门的实验布局，请联系我们为您提供最适合您应用的实验布局，这里仅举一个应用系统的例子。

在这里使用一个反射型光纤探头来在线监测镀膜生产过程。光线通过过真空装置进入真空室，然后传到反射探头上。反射光经过另一个过真空装置，进入光谱仪的一个测量通道。反射型探头可以通过SMA接头拆下。还可以再增加一个光谱仪通道，用来进行参考测量或补偿光源本身的波动对测量结果的影响。

真空室测量的典型装置如下图所示。

真空镀膜过程监控常用配置:

Last Updated: 22-08-06